LVS

Zkratka LVS s významem Layout Versus Schematic vznikla nejpozději v 70. letech 20. století v oblasti elektronického návrhu integrovaných obvodů (IC), kdy bylo potřeba ověřovat, zda fyzický layout odpovídá logickému schématu návrhu. První programy pro porovnání layoutu a schématu byly vyvinuty kolem roku 1975 a pracovaly zejména na principu porovnávání grafů (graph isomorphism), tedy zda jsou layout a schéma identické z hlediska struktury obvodu.Použití a rozšíření LVS začalo kvůli potřebě zajistit nejen správné fyzické uspořádání podle návrhu, ale také aby se předešlo chybám v implementaci, které by mohly vést k nefunkčnosti čipu. Zatímco předchozí kontroly jako DRC (Design Rule Check) se zaměřovaly na fyzické dodržení výrobních pravidel, LVS zajišťuje korektnost elektrického schématu vůči layoutu.Během 80. let došlo k vývoji sofistikovanějších LVS nástrojů schopných formální kontroly ekvivalence i u komplexních obvodů. Následný vývoj integroval LVS do komplexních EDA balíků s dalšími technikami jako DRC či extrakce parazitních efektů.V posledních letech nabývá významu díky rostoucí komplexitě SoC zařízení a novým výrobním technologiím vyžadujícím detailní verifikaci před výrobou. Kdo přesně termín poprvé použil není doloženo, ale koncept vznikl v raných letech EDA v akademickém i průmyslovém prostředí.